Структура и свойства поверхностного слоя стали ШХ15 после упрочнения полоструктурирующим выглаживанием клиновым цилиндрическим инструментом
Аннотация
ПОДШИПНИКОВАЯ СТАЛЬ, ПОВЕРХНОСТНЫЙ СЛОЙ,
УПРОЧНЕНИЕ, НАНОСТРУКТУРИРУЮ ВЫГЛАЖИВАНИЕ, КЛИНОВОЙ ЩЩИНДРИЧЕСКИЙ ИНСТРУМЕНТ
Объектом исследования явились поверхностные слои образцов из конструкционной стали ШХ15 после стандартной термической обработки и наноструктурирующего выглаживания. На основе анализа принципов и методов наноструктурирования материалов интенсивной пластической деформацией (ИПД) обосновано применение технологии упрочнения поверхностного слоя наноструктурирующим выглаживанием клиновым цилиндрическим инструментом. В работе изучена взаимосвязь нормальной нагрузки от 100 до 250 Н на инструмент с микротвердостью и толщиной наноструктурированного слоя. Выполнен микроструктурный анализ образцов с применением сканирующей, просвечивающей микроскопии и определены толщина нанослоя и размеры нанокристаллитов. Установлено, что воздействие инструмента с нормальной силой 200 и 250 Н обеспечивает формирование наноструктурированного слоя толщиной 4,3...5,5 мкм с размерами нанокристаллитов 12...70 нм и максимальной микротвердостью 1120...1170 HV0,05.
УПРОЧНЕНИЕ, НАНОСТРУКТУРИРУЮ ВЫГЛАЖИВАНИЕ, КЛИНОВОЙ ЩЩИНДРИЧЕСКИЙ ИНСТРУМЕНТ
Объектом исследования явились поверхностные слои образцов из конструкционной стали ШХ15 после стандартной термической обработки и наноструктурирующего выглаживания. На основе анализа принципов и методов наноструктурирования материалов интенсивной пластической деформацией (ИПД) обосновано применение технологии упрочнения поверхностного слоя наноструктурирующим выглаживанием клиновым цилиндрическим инструментом. В работе изучена взаимосвязь нормальной нагрузки от 100 до 250 Н на инструмент с микротвердостью и толщиной наноструктурированного слоя. Выполнен микроструктурный анализ образцов с применением сканирующей, просвечивающей микроскопии и определены толщина нанослоя и размеры нанокристаллитов. Установлено, что воздействие инструмента с нормальной силой 200 и 250 Н обеспечивает формирование наноструктурированного слоя толщиной 4,3...5,5 мкм с размерами нанокристаллитов 12...70 нм и максимальной микротвердостью 1120...1170 HV0,05.