Электрохимическое текстурирование кремния в поливольфраматном расплаве

Аннотация

Цель: выявление влияния условий травления на морфологию и фототок текстурированного кремния, определение условий эффективного текстурирования монокристаллических пластин Si в поливольфраматном расплаве K2WO4-Na2WO4-WO3 и оценка возможности получения поливольфраматных расплавов с заданной концентрацией кремния. Проведено электрохимическое текстурирование кремниевых пластин в поливольфраматных расплавах K2WO4-Na2WO4(1:1), содержащих 35 или 50 мол.% WO3, при 700°С на воздухе. Анализ данных циклической вольтамперометрии, стационарной поляризации, хроноамперометрии, хронопотенциометрии, гравиметрии, сканирующей электронной микроскопии и рентгенофазового анализа показывает, что при анодном растворении монокристаллическая кремниевая подложка покрывается пассивирующей поверхность электрода пористой коркой SiO2, которая может медленно растворяться или механически разрушаться в ходе процесса. Изучено влияние температуры и концентрации WO3 на скорость растворения диоксида кремния в поливольфраматном расплаве.