Химическое осаждение сульфида меди на фторопласт марки ФАФ- 4Д с последующим электрохимическим осаждением меди
Аннотация
В работе проведен анализ ионных равновесий в системе «CuSO4– CH3COONa – CS(NH2)2» с определением оптимальных условий химического осаждения пленок CuxS. Химическим осаждением получены пленки CuxS на фторопласте марки ФАФ-4Д, обработка поверхности которого проведена c использованием двух низкотемпературных способов. Проведено электрохимическое меднение с предварительной затяжкой Ni поверхности пленки CuxS и оценено качество покрытия при использовании двух методов подготовки поверхности фторопласта.
Исследованы морфология, структура и толщина пленок CuxS и электрохимически осажденной меди с предварительной затяжкой Ni.
Исследованы морфология, структура и толщина пленок CuxS и электрохимически осажденной меди с предварительной затяжкой Ni.