Метод получения оксидных покрытий реакционным испарением в анодной дуге.
Аннотация
Объект исследования: Метод получения покрытий, основанный на реактивном термическом испарении водоохлаждаемого анода, который помещен в неоднородное магнитное поле.
Цель работы: исследование условий формирования тонких пленок Gd2O3 методом анодного термического испарения
Методы исследования: оптическая спектроскопия плазмы, рентгенофазовый анализ, измерение толщины покрытия абразивным методом шарового истирания Calotest, теоретический расчет.
Полученные результаты: впервые методом анодного термического испарения были получены однофазные Gd2O3 покрытия толщиной более 0,5 мкм с высокой скоростью (1,6 мкм/ч). Показано, что степень ионизации Gd достигает 80%. Опредлено, что в диапазоне температур от 150 до 600 °С толщина покрытий оказывает доминирующее влияние на фазовый состав покрытий. Синтез однофазных покрытий с кубической структурой происходит при потоках O2 на порядок величины меньше, чем в других высокоскоростных методах таких, как электронно-лучевое испарение.
Новизна: впервые был применен метод реактивного термического испарения водоохлаждаемого анода для получения нанокристаллических покрытий Gd2O3.
Область применения: получение нанокристаллических покрытий в том числе диэлектрических различного функционального назначения.
Цель работы: исследование условий формирования тонких пленок Gd2O3 методом анодного термического испарения
Методы исследования: оптическая спектроскопия плазмы, рентгенофазовый анализ, измерение толщины покрытия абразивным методом шарового истирания Calotest, теоретический расчет.
Полученные результаты: впервые методом анодного термического испарения были получены однофазные Gd2O3 покрытия толщиной более 0,5 мкм с высокой скоростью (1,6 мкм/ч). Показано, что степень ионизации Gd достигает 80%. Опредлено, что в диапазоне температур от 150 до 600 °С толщина покрытий оказывает доминирующее влияние на фазовый состав покрытий. Синтез однофазных покрытий с кубической структурой происходит при потоках O2 на порядок величины меньше, чем в других высокоскоростных методах таких, как электронно-лучевое испарение.
Новизна: впервые был применен метод реактивного термического испарения водоохлаждаемого анода для получения нанокристаллических покрытий Gd2O3.
Область применения: получение нанокристаллических покрытий в том числе диэлектрических различного функционального назначения.