Исследование влияния толщины диэлектрического слоя и степени отклонения состава от стехиометрического на формирование дендритных доменных структур в монокристаллах танталата лития и ниобата лития

Сурсяков Вячеслав Сергеевич

Аннотация


Целью работы является исследование влияния толщины диэлектрического слоя, переключающего поля и степени отклонения состава от стехиометрического на формирование самоорганизованных доменных структур при повышенной температуре в монокристаллах ниобата лития и танталата лития.
Работа включает в себя 41 страницу, 32 рисунка, 6 таблиц, 23 библиографические ссылки.
В работе проведено исследование влияния толщины диэлектрического слоя, переключающего поля и степени отклонения состава от стехиометрического на формирование самоорганизованных доменных структур при повышенной температуре в монокристаллах ниобата лития и танталата лития. Показано влияние переключающего поля и диэлектрического слоя на плотность заполнения доменов, их константу формы и долю прорастания, а также степень симметрии относительно поворота. Показано влияние степени отклонения состава от стехиометрического на скорость роста доменов.
Достоверность полученных результатов обеспечивается применением современного аттестованного оборудования, статистикой проведенных экспериментов, применением независимых методов обработки данных, согласием с экспериментальными результатами других авторов и непротиворечивостью известным физическим моделям. Достоверность проведенных расчетов подтверждается обоснованностью принятых допущений, согласованностью с экспериментальными данными и другими результатами.